کاربید

تغییر وضعیت زیربخش‌های طبقه بندی شیمیایی کاربیدها ... ترکیب گرافیت kc8 که از بخار پتاسیم و گرافیت تهیه می شود و مشتقات فلز قلیایی c60 معمولاً به عنوان کاربید طبقه بندی نمی شوند. ... کاربید سیلیکون ...

تیتانیوم کاربید (TiC)

تیتانیوم کاربید (TiC) یا به عبارتی Titanium(IV) Carbide، یکی از انواع سرامیک‌ها است که از ترکیب دو عنصر تیتانیوم و کربن تشکیل گردیده است و ماده ای با سختی استثنایی، نقطه ذوب بالا و پایداری شیمیایی عالی شناخته شده است.

سیلیکون کاربید چیست و چه کارایی در صنعت اتصالات دوار و دیگر صنایع دارد

همچنین بخار شیمیایی سیلیکون کاربید رسوب یافته به نام CVD Silicon Carbide وجود دارد که یک شکل کاملاً خالص این ترکیب می باشد. ویژگی های کاربردی سیلیکون کارباید

انواع روش های سنتز نانومواد

انواع روش هاي سنتز نانومواد. روش های مختلف سنتز نانومواد مانند رسوب بخار فیزیکی، رسوب بخار شیمیایی، روش سل ژل، روش پلاسمای rf، روش لیزر پالسی، روش ترمولیز و روش احتراق محلول وجود دارد که در ادامه به هر یک از روش های سنتز ...

تولید نانومواد با روش رسوب‌دهی شیمیایی بخار

رسوب دهی شیمیایی بخار (cvd) یکی از کاربردی ترین متد ها در تهیه سطوح ویژه جهت ساخت تجهیزات با فناوری بالاست. در این مقاله سعی بر این است که توجه خود را بر روی رسوب دهی نیمه رساناها، برخی فلزات و در ...

سیلیکون کاربید چیست؟ | REFICO

سیلیکون کاربید چیست؟ از ویژگی ها تا کاربرد . سیلیکون کاربید یا سیلیکون کارباید (Silicon carbide) یک ماده معدنی نوظهور برای ساخت مواد نیمه رسانا با ترکیبی از کربن و سیلیکون است که با نماد شیمیایی SiC مشخص می شود.

نانوذرات کاربید سیلیسیوم

راهنمای ایمنی کار با نانوذرات کاربید سیلیسیوم. در صورت تماس نانوذرات کاربید سیلیسیوم با چشم و پوست، بلافاصله حداقل ۱۵ دقیقه چشمها و پوست را با آب فراوان شستشو دهید و لباسهای آلوده را دور نگه دارید و قبل از استفاده مجدد ...

نفوذ دهی بخار شیمیایی

نفوذ دهی بخار شیمیایی ( cvi) یک فرایند در مهندسی سرامیک است که در طی آن ماده زمینه با استفاده از گازهای واکنش پذیر در دمای بالا به داخل یک پیش فرم فیبری نفوذ داده می شود تا یک کامپوزیت تقویت شده با الیاف تشکیل شود.

چین گیرنده MOCVD تولید کنندگان، تامین کنندگان، کارخانه

صفحه مرکزی گرافیتی Semicorex یا گیرنده MOCVD یک کاربید سیلیکون با خلوص بالا است که با روش رسوب بخار شیمیایی (CVD) پوشش داده شده است و در فرآیند رشد لایه اپیتاکسیال روی تراشه ویفر استفاده می شود.

آشنایی با الیاف سرامیکی – مرجع تخصصی صنایع نساجی

این الیاف را می توان از طریق رسوب بخار شیمیایی (CVD) Chemical Vapor Deposition ٬ دمش مذاب ٬ سل – ژل ٬ اکستروژن و ریسندگی تولید نمود. ... الیاف سرامیکی سیلیکون کاربید و بور در ابتدا در دهه 1960 به روش CVD بروی بستر ...

سنتز پودر کاربید سیلیکون با خلوص بالا

پودر سیلیکون کاربید با خلوص بالا دارای ویژگی‌های استثنایی باندگپ گسترده است که آن را به یک ماده ایده‌آل برای ساخت دستگاه‌های الکترونیکی با فرکانس بالا و توان بالا تبدیل می‌کند.

اپیتاکسی سیلیکون با استفاده از رسوب دهی شیمیایی از حالت بخار

تولید اپیتاکسی سیلیکون از ابتداری دهه ی 1960 با استفاده از رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار در از کلروسیالون ها( ، ،) انجام شد( این کار در یک سیستم انتقال بخار لوله ای انجام شد). این فرایند با مواد ...

مواد اصلی برای رشد SiC: پوشش کاربید تانتالم

نیمه هادی های نسل سوم فعلی اساساً بر پایه سیلیکون کاربید هستند که بسترهای آن 47 درصد هزینه های دستگاه را تشکیل می دهند و اپیتاکسی 23 درصد را به خود اختصاص می دهد که در مجموع حدود 70 درصد است و مهمترین بخش صنعت تولید دستگاه ...

کامپوزیت های سیلیکون کاربید تقویت شده با الیاف کربن (1)

عموماً روش نفوذ بخار شیمیایی، اجازه می دهد تا انواع مختلفی از زمینه ها و اشکال مختلف، تحت عملیات نفوذ قرار گیرند. ... کیفیت و خلوص سیلیکون کاربید رسوب دهی شده، بوسیله ی نرخ اختلاط میان هیدروژن ...

رسوب دهی شیمیایی بخار

رسوب¬دهی شیمیایی بخار (CVD: Chemical Vapor Deposition) یک فرایند شیمیایی است که به منظور ایجاد یک لایه با کیفیت و با کارامدی بالا بر روی سطح استفاده می¬شود. این تکنیک

تامین کنندگان، تولید کنندگان و کارخانه حلقه فوکوس چین

حلقه‌های فوکوس Semicorex با پوشش کاربید سیلیکون با استفاده از رسوب بخار شیمیایی (CVD) مقاومت بالایی در برابر حرارت، حتی یکنواختی حرارتی برای ضخامت و مقاومت لایه epi ثابت و مقاومت شیمیایی بادوام ...

چین روکش کاربید سیلیکون تولید کنندگان، تامین کنندگان، کارخانه

Semicorex یکی از حرفه ای ترین تولید کنندگان و تامین کنندگان با روکش سیلیکون کاربید در چین است که با خدمات خوب مشخص شده است. ما نه تنها کارخانه خودمان را داریم، بلکه روکش کاربید سیلیکون سفارشی را نیز ارائه می دهیم.

پوشش PVD چیست؟ رسوب بخار فیزیکی

پوشش pvd چیست؟ رسوب بخار فیزیکی (pvd)، همچنین به عنوان آبکاری خلاء شناخته می شود، در دهه 1970 ظهور کرد و لایه های نازکی با سختی بالا، ضریب اصطکاک کم، مقاومت در برابر سایش خوب و پایداری شیمیایی تولید کرد.

ابزار الماس

روش cvd (رسوب‌گذاری بخار شیمیایی): در این روش، الماس‌ها از گازهای کربنی مانند متان تولید می‌شوند. این گازها تحت شرایط خاصی تجزیه شده و اتم ‌های کربن به صورت لایه‌لایه بر روی سطحی رسوب می ...

رسوب دهی شیمیایی بخار، از پرکاربرد ترین روش های پایین به بالا در تولید

روش رسوب دهی شیمیایی بخار (cvd) یکی از قدیمی ترین، مهم ترین و رایج ترین روش های پایین به بالا در تکنولوژی نانو به منظور تولید نانو ذرات و همچنین تولید لایه های نازک می باشد.

تیتانیوم کاربید – سخت ترین ترکیب فلزی

(Titanium Carbide - The Hardest Metal Compound) در مقایسه با کاربید تنگستن، کاربید تیتانیوم یک ماده سرامیکی نسوز بسیار سخت است. ساختار کریستالی کلرید سدیم آن به کاربید تیتانیوم ظاهری شبیه پودر سیاه می دهد. چکیده یکی از رایج ترین فلزات ...

رسوب بخار شیمیایی چیست؟

رسوب بخار شیمیایی (cvd) یک روش پرکاربرد برای ایجاد پوشش های با کیفیت بالا بر روی سطوح اجسام ("زیرهای") در یک محفظه واکنش است. ... زمان مطالعه: 2 دقیقه آنالایزر گاز یکی از تجهیزات مهم در صنایع مختلف ...

چین گیرنده MOCVD تولید کنندگان، تامین کنندگان، کارخانه

Semicorex SiC MOCVD Inner Segment یک ماده مصرفی ضروری برای سیستم های رسوب بخار شیمیایی فلزی-آلی (MOCVD) است که در تولید ویفرهای اپیتاکسیال کاربید سیلیکون (SiC) استفاده می شود.

پوشش CVD رسوب بخار شیمیایی بر روی اکسید سیلیکون یا سیلیکون

پوشش cvd رسوب بخار شیمیایی بر روی اکسید سیلیکون یا سیلیکون ... تجهیزات انرژی خورشیدی ... 1000 درجه سانتیگراد ، گازها از سیلیکون جدا می شوند که روی سطح ویفر رسوب می کند. سیلیکون ساختار بستر را به ارث ...

سرامیک کاربید سیلیکون: کاربردهای صنعت فتوولتائیک

سرامیک های کاربید سیلیکون دارای استحکام مکانیکی خوب، پایداری حرارتی، مقاومت در برابر دمای بالا، مقاومت در برابر اکسیداسیون، مقاومت در برابر شوک حرارتی و مقاومت در برابر خوردگی شیمیایی ...

سیلیکون کارباید چیست و چه ویژگی های کاربردی دارد؟

روش‌های رسوب‌دهی شیمیایی بخار

۱- انواع روش های رسوب دهی شیمیایی بخار منابع زیادی مانند گرما، پلاسما، لیزر، فوتون و … برای تشکیل لایه نازک با رسوب دهی شیمیایی بخار استفاده می شود.

لایه‌نشانی بخار شیمیایی

جریان مستقیم پلاسما (بنفش) باعث بهبود رشد نانوتیوب‌های کربن در دستگاه سایز لابراتوار PECVD می‌شود.. لایه‌نشانی بخار شیمیایی (به انگلیسی: Chemical vapor deposition به اختصار CVD) یکی از روش‌های لایه‌نشانی در خلاء برای تولید مواد با ...

سرامیک سیلیکون کاربید (SiC)

سرامیک های کاربید سیلیکون به دلیل مقاومت در برابر دمای بالا و خواص سایش به طور گسترده در صنایع هوافضا، خودروسازی، دفاعی، پردازش شیمیایی و صنایع الکترونیک استفاده می شود.

رسوب دهی شیمیایی بخار – Chemical Vapor Deposition

با استفاده از لایه نشانی به روش رسوب شیمیایی بخار، می‌توان نانو ساختار‌های متنوعی را مانند نانوساختار‌های سرامیکی، کاربید‌ها و نانولوله‌های کربنی ایجاد کرد.